光刻機和刻蝕機的區別

刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去，然后刻蝕機根據印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒(méi)有圖案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂滿(mǎn)光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然后用紫外線(xiàn)隔著(zhù)光刻板對晶圓進(jìn)行一定時(shí)間的照射。原理就是利用紫外線(xiàn)使部分光刻膠變質(zhì)，易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導體器件及其電路。

擴展資料：

光刻機一般根據操作的簡(jiǎn)便性分為三種，手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)

1.手動(dòng)：指的是對準的調節方式，是通過(guò)手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對準，對準精度可想而知不高了；

2.半自動(dòng)：指的是對準可以通過(guò)電動(dòng)軸根據CCD的進(jìn)行定位調諧；

3.自動(dòng)： 指的是 從基板的上載下載，曝光時(shí)長(cháng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制，自動(dòng)光刻機主要是滿(mǎn)足工廠(chǎng)對于處理量的需要。